中商情報網訊：掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關鍵部件之一，是下游行業產品制造過程中的圖形“底片”轉移用的高精密工具，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。
市場規模
掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉移母版，是平板顯示、半導體、觸控、電路板等行業生產制造過程中重要的關鍵材料，其中，半導體是掩膜版最主要的應用領域，占比60%。中商產業研究院發布的《2024-2029年中國掩膜版市場調查與行業前景預測專題研究報告》數據顯示，2018-2022年，全球半導體掩膜版市場規模由40.41億美元增長至49億美元，復合年均增長率達4.9%，預計2024年半導體掩膜版市場規模將繼續增長至53.24億美元。
數據來源：SEMI、中商產業研究院整理
重點企業分析
從行業競爭格局來看，美國、日韓掩膜版廠商處于領先地位。重點企業主要包括福尼克斯、PKL、豐創光罩，具體如圖所示：
資料來源：中商產業研究院整理
更多資料請參考中商產業研究院發布的《中國掩膜版市場前景及投資機會研究報告》，同時中商產業研究院還提供產業大數據、產業情報、行業研究報告、行業白皮書、行業地位證明、可行性研究報告、產業規劃、產業鏈招商圖譜、產業招商指引、產業鏈招商考察&推介會、“十五五”規劃等咨詢服務。
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