中商情報網訊：光刻機是一種將目標結構圖樣印刷到硅片等基底上的機器，其機理類似照片沖印過程，是半導體制造中最為重要的設備之一。光刻機的工作流程主要包括準備、涂覆、曝光、顯影、腐蝕、清洗和檢測等步驟。光刻機技術是當前半導體制造領域的關鍵技術之一，其技術水平的提升直接決定了芯片制造工藝的進步和發展。目前，全球前道光刻機市場被ASML、尼康、佳能等公司壟斷。
隨著國家對半導體產業的重視和投入加大，國內光刻機企業開始加速自主研發和創新。上海微電子是國內唯一一家生產高端前道光刻機整機的公司，已經實現了90nm光刻機的量產，并在不斷努力突破先進制程，加速國產化進程。此外，國內還有多家企業在光刻機產業鏈的相關零部件領域取得了突破，如光源系統、照明系統和投影物鏡等環節。
資料來源：中商產業研究院整理
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