三、光刻機發展前景
1.政策利好行業發展
我國光刻機產業起步較晚，光刻設備需要長期大量依賴進口，自主可控需求日益突出。同時，由于光刻機屬于高精端產品，其產能有限。因此，從國家安全層面來講，核心技術必須做到獨立自主，相關政策也持續推出。
資料來源：中商產業研究院整理
我國對于光刻機行業較為重視。對于整個IC產業鏈企業的政策優待以及對于半導體設備行業的相關規劃與推動。其主要表現在資金方面的補助和人才方面的培養，以及進出口，投融資方面的政策扶持。
2.半導體市場增長帶動行業發展
全球半導體設備行業復蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的發展,帶動相關芯片的需求。伴隨著成為世界電子產業核心，中國目前已經成為最大的半導體市場，并且繼續保持最快的增速。光刻機作為芯片產業鏈上游的重要組成部分，受此影響得到大力推動。
3.國產代替進口需求推動行業發展
目前光刻機市場主要由國外三大企業所壟斷，隨著中國大陸代工廠的不斷擴建，未來對于國產光刻機的需求不斷提升，而當前國內與國外頂尖光刻機制程仍存在較大差距。但為應對國外技術出口管制風險，國產光刻機需求上漲，推動行業加速發展。
更多資料請參考中商產業研究院發布的《中國光刻機市場前景及投資機會研究報告》，同時中商產業研究院還提供產業大數據、產業情報、行業研究報告、行業白皮書、商業計劃書、可行性研究報告、園區產業規劃、產業鏈招商圖譜、產業招商指引、產業鏈招商考察&推介會等服務。
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